三氟化氮(nitrogen trifluoride)化學(xué)式NF?,在常溫下是一種無色、無臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體,是一種強(qiáng)氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體,在離子蝕刻時(shí)裂解為活性氟離子,這些氟離子對(duì)硅和鎢化合物,高純?nèi)哂袃?yōu)異的蝕刻速率和選擇性(對(duì)氧化硅和硅),它在蝕刻時(shí),在蝕刻物表面不留任何殘留物,是非常良好的清洗劑,同時(shí)在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運(yùn)用。